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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”

今日,眾多媒體報(bào)道稱,在美國(guó)當(dāng)?shù)貢r(shí)間2月7日,美國(guó)商務(wù)部工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)表聲明,宣布將33個(gè)總部在中國(guó)的實(shí)體列入“未經(jīng)核實(shí)清單(Unverified List,UVL)”。

這33家企業(yè)主要包括電子、光學(xué)、藥研等高新技術(shù)企業(yè)及大學(xué)實(shí)驗(yàn)室等,意義很明顯,就是打壓中國(guó)高科技,限制這些高精尖的科技發(fā)展。

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”

而這33家企業(yè)中,我國(guó)先進(jìn)光刻機(jī)供應(yīng)商上海微電子亦在其中。

事實(shí)上,在北京時(shí)間2月7日,上海微電子是有一件大事情發(fā)生的,那就是舉行了中國(guó)首臺(tái)2.5D/3D先進(jìn)封裝光刻機(jī)的發(fā)運(yùn)儀式。

這臺(tái)最先進(jìn)的先進(jìn)封裝光刻機(jī),主要用于高端數(shù)據(jù)中心高性能計(jì)算(HPC)和高端AI芯片等高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域,可滿足2.5D/3D的先進(jìn)封裝,據(jù)稱是行業(yè)內(nèi)同類產(chǎn)品的最高水平。

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”

不過(guò)大家要注意的是,先進(jìn)封裝光刻機(jī),并不等同于先進(jìn)芯片制造的光刻機(jī),這是兩碼事。

我們平時(shí)指的ASML的EUV光刻機(jī),是指前道光刻機(jī),用于晶圓的制造,目前上海微電子對(duì)外公開(kāi)的前道光刻機(jī)型號(hào)是SSA600/20,只能用于90nm的分辨率,落后ASML的EUV光刻機(jī),至少是10年以上的差距。

而封裝光刻機(jī),是指后道光刻機(jī),是用于芯片制造后的封測(cè)階段,其技術(shù)難度是不一樣的,且兩種光刻機(jī)的原理也不一樣的。

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”

至于為何美國(guó)要將上海微電子列入“未經(jīng)核實(shí)清單”?原因我們可以分析一二。

按照說(shuō)法,列入這一清單的公司如果要向美國(guó)企業(yè)采購(gòu)產(chǎn)品,必須獲得許可證。如果這些公司想要從名單中除名,就必須允許美國(guó)政府對(duì)其進(jìn)行檢查。而如果要獲得美國(guó)供應(yīng)商的元件,就必須出具聲明,證明自己為合法且愿意遵守美國(guó)法規(guī)

通過(guò)以上這三點(diǎn),想必大家明白了吧,根本就是打壓中國(guó)高科技,不想讓我們發(fā)展,或者通過(guò)檢查等手機(jī),掌握對(duì)方的一些商業(yè)機(jī)密,更進(jìn)一步進(jìn)行精準(zhǔn)打擊,或者進(jìn)行掌控。

       原文標(biāo)題 : 國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭,才發(fā)運(yùn)先進(jìn)光刻機(jī),就被美列入“未經(jīng)核實(shí)清單”

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