荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 已和韓國三星電子達(dá)成新的合作協(xié)議，雙方將聯(lián)合投資 7.6億美元（約 56 億人民幣/ 1 萬億韓元）在韓國新建一座半導(dǎo)體研究中心，該研發(fā)中心的主攻方向為下一代芯片的研發(fā)和制作。

國家交流促進(jìn)的半導(dǎo)體合作

荷蘭當(dāng)?shù)貢r間周一，韓國總統(tǒng)尹錫烈對阿姆斯特丹進(jìn)行了為期四天的國事訪問期間，這是自 1961 年兩國建交以來韓國首腦首次對荷蘭進(jìn)行國事訪問。

在訪問期間，尹錫烈?guī)е�三星電子董事長李在镕和韓國 SK（海力士）集團(tuán)董事長 Chey Tae-won 參觀了 AMSL 的制造工廠。隨后三星和 ASML 宣布共同投資 7.6 億美元構(gòu)建半導(dǎo)體研究所和制造工廠，主攻方向是利用下一代 EUV 光刻機(jī)研究超精細(xì)芯片制造工藝。

除了三星電子，此次訪問還促進(jìn)了 ASML 和韓國存儲芯片巨頭 SK 海力士的合作。雙方在訪問期間簽署了一項協(xié)議，共同開發(fā)使用 EUV 設(shè)備降低半導(dǎo)體生產(chǎn)中能源損失的技術(shù)。

除了企業(yè)合作，兩國最高貿(mào)易官員還簽署了一項協(xié)議，將在埃因霍溫理工大學(xué)和荷蘭 ASML 總部引入尖端半導(dǎo)體學(xué)院，為兩國培養(yǎng)半導(dǎo)體人才。該半導(dǎo)體學(xué)校的五年計劃將于明年二月開始實施，預(yù)計將為兩國培養(yǎng)500名芯片專家，同時滿足了韓國對半導(dǎo)體人才的需求和荷蘭引入外來勞工的訴求，是一項雙贏的策略。

ASML：全球獨(dú)家的 EUV 技術(shù)

光刻機(jī)的作用是使用光源在硅晶圓上蝕刻電子通路，是制作半導(dǎo)體芯片的重要器械。目前市面上的光刻機(jī)主要包含 DUV （深紫外線 / Deep Ultraviolet Lithography）和 EUV （極深紫外線/ Extreme Ultraviolet Lithography）兩種。

DUV 和 EUV 最大的區(qū)別是光源不同：最先進(jìn)的DUV光源波也達(dá)到了193nm，這導(dǎo)致它只能用來制作 7nm 和更高制程的芯片。而 EUV 的波長僅有 13.5nm，能在半導(dǎo)體晶圓上印刷更精細(xì)的圖案，一般用來制作 5nm 及以下制程的芯片。

同樣的芯片面積，其制程越低，可制作的電路內(nèi)容就越豐富，性能也越強(qiáng)。因此 EVU 技術(shù)制造的芯片性能非常強(qiáng)勁，通常會用作是手機(jī)、平板、電腦等終端消費(fèi)電子的處理器。

目前ASML 是全球獨(dú)家 EUV 光刻機(jī)廠商，一直在為臺積電、三星、英特爾等高端芯片巨頭提供最先進(jìn)的 EUV 光刻機(jī)。2022 年，ASML 以 223 億美元的收入排名全球企業(yè)第172位。

對中國的 EUV 禁令

為了防止中國獲得世界頂級的芯片制造技術(shù)，破壞歐美發(fā)達(dá)地區(qū)在高端半導(dǎo)體行業(yè)的壟斷地位。2019 年美國與荷蘭、日本國家政府發(fā)布禁令，禁止企業(yè)向中國提供先進(jìn)的 EUV 設(shè)備及技術(shù)，導(dǎo)致 ASML 只能在中國區(qū)域銷售 DUV 和其他更落后的光刻機(jī)。

今年 9 月美荷政府又進(jìn)一步加強(qiáng)對 ASML 中國業(yè)務(wù)的禁令：除了EUV 光刻機(jī)，7 nm 等制程較為先進(jìn)的 DUV 光刻機(jī)也被加入禁令中。隨后美國商務(wù)部也對中國發(fā)布了多條半導(dǎo)體貿(mào)易和技術(shù)往來禁令，誓要全面封鎖中國的高端半導(dǎo)體市場。

這是一場無聲的戰(zhàn)爭，在美層層封鎖下，我國只能放棄以往“以買代研”的依賴心理，踏入一條漫長的半導(dǎo)體自研長河。但在這些黑暗之路中也有一些振奮人心的消息，比如華為下半年推出的麒麟9000系列芯片，盡管該芯片的制程和代工方還沒有定論，但單論芯片性能已然接近 7nm 制程水平。

然路漫漫其修遠(yuǎn)兮，蘋果、臺積電等掌握 EUV 技術(shù)的頭部企業(yè)已將芯片制程降低至 4nm 甚至3nm ，國產(chǎn)半導(dǎo)體還有很長的路需要走。